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技術(shù)支持
單層芯片電容的頻率特性
發(fā)布者 : admin 發(fā)布時(shí)間 : 2019/03/05 09:03:40



芯片電容——單層陶瓷電容器具有尺寸小、厚度薄,等效串聯(lián)電阻低、損耗低等優(yōu)點(diǎn),它的頻率特性好,應(yīng)用頻率可達(dá)數(shù)千兆赫茲,適用于小型、微波的場合,可用于微波集成電路中,起到隔直流、RF旁路、濾波、調(diào)諧等作用。


芯片電容的頻率特性是指電容器電容量等參數(shù)隨頻率變化的關(guān)系,因此電容器在高頻下工作時(shí),隨著工作效率的升高,由于絕緣介質(zhì)介電系數(shù)減小,電容量將會(huì)減小,而損耗將增大,并且會(huì)影響電容器的分布參數(shù),逐漸會(huì)呈現(xiàn)感性。芯片電容的頻率特性,假設(shè)角頻率為ω,電容器的靜電容量為C,則理想狀態(tài)下電容器(1)的阻抗Z可用公式①表示:




①XC=1/(ω×C)=1/(2×π×f×C)



由公式①可看出,阻抗大小|Z|如(2)所示,與頻率呈反比趨勢減少。由于理想電容器中無損耗,故等效串聯(lián)電阻(ESR)為零。



但實(shí)際電容器(2)中除有容量成分C外,還有因電介質(zhì)或電極損耗產(chǎn)生的電阻(ESR)及電極或?qū)Ь€產(chǎn)生的寄生電感(ESL)。因此,|Z|的頻率特性如(4)所示呈V字型(部分電容器可能會(huì)變?yōu)閁字型)曲線,ESR也顯示出與損耗值相應(yīng)的頻率特性。




|Z|和ESR變?yōu)椋?)中曲線的原因如下:低頻率范圍的|Z|與理想電容器相同,都與頻率呈反比趨勢減少。ESR值也顯示出與電介質(zhì)分極延遲產(chǎn)生的介質(zhì)損耗相應(yīng)的特性。而在共振點(diǎn)附近:頻率升高,則|Z|將受寄生電感或電極的比電阻等產(chǎn)生的ESR影響,偏離理想電容器(紅色虛線),顯示最小值。|Z|為最小值時(shí)的頻率稱為自振頻率,此時(shí)|Z|=ESR。若大于自振頻率,則元件特性由電容器轉(zhuǎn)變?yōu)殡姼?,|Z|轉(zhuǎn)而增加。低于自振頻率的范圍稱作容性領(lǐng)域,反之則稱作感性領(lǐng)域。



ESR除了受介電損耗的影響,還受電極自身抵抗行程的損耗影響。高頻范圍:共振點(diǎn)以上的高頻率范圍中的|Z|的特性由寄生電感(L)決定。高頻范圍的|Z|可由(2)中公式近似得出。與頻率成正比趨勢增加。ESR逐漸表現(xiàn)出電極趨膚效應(yīng)及接近效應(yīng)的影響。


以上為實(shí)際電容器的頻率特性。重要的是,頻率越高,越不能忽視寄生成份ESR或ESL的影響,隨著芯片電容在高頻領(lǐng)域的應(yīng)用越來越多,ESR和ESL和靜電容量一樣,成為表示芯片電容性能的重要參數(shù)。


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